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本論文分為兩個部分,第一部分目的在探討使用共濺鍍氣相沉積法製備碳化矽薄膜。不同於高溫(1600℃)化學氣相沉積法製備碳化矽薄膜,本研究之重點在於利用矽合金靶材和碳靶在相對低溫的下以不同射頻電漿製程參…
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在本論文中我們使用射極-濺鍍沉積參鎢氧化銦以及氫化氧化銦之透明導電膜,期望能利用該等材質較高的功函數以及光學透過特性應用於矽晶異質接面太陽能電池的製作上,以獲得較佳電池轉換效率之表現。實驗結果顯示,…